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Intel加速7nm EUV工艺:2021年量产 Xe架构GPU首发

来源:恒梁资讯网
  

  尽管2019年Intel已经量产了10nm工艺,但是因为多年延期,导致10nm工艺进度没跟上,目前还处于产能爬坡阶段,以致于Intel的处理器出现供应短缺的问题。为了彻底解决这些问题,Intel还在努力推进7nm工艺,最快2021年量产。

  7nm是Intel下一代工艺的重要节点,而且是高性能工艺,其地位堪比现在的14nm工艺,而且它还是Intel首次使用EUV光刻的制程工艺,意义重大。

  根据Intel之前公布的信息,其7nm EUV工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍,每瓦性能提升20%,设计复杂度降低了4倍。

  7nm工艺的首款产品就是Xe架构的GPU加速芯片,主要应用于数据中心AI及高性能计算,最快2021年量产,也就是2年后7nm EUV就能担大梁了。

  目前Intel正在加速7nm EUV工艺的步伐,今年8月份就订购用于7nm EUV工艺节点的材料和设备,比预期速度更快。

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